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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者杉浦 勝己; 穴山 親志
发表日期1993-07-13
专利号JP1993175596A
著作权人FUJITSU LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【目的】 リッジ型埋め込み構造を有する半導体レーザ装置に関し,電流がクラッド層から埋め込み層を通って流れるのを防止して,電流を活性層に集中できるようにし,発振閾値電流を低下させる。 【構成】 n+ -InP基板11上に,n- -In0.6 Ga0.4 As0.9 P0.1 活性層(λ=55μm)12およびp-In0.92Ga0.08As0.18P0.82クラッド層(λ=0μm)13が形成されている。これらは,基板と同じ材料のp-InP埋め込み層14およびn-InP埋め込み層15によって埋め込まれている。クラッド層13の禁制帯幅は24eVであり,埋め込み層14の禁制帯幅は35eVであるので,界面に正孔に対して0.7eVのポテンシャル障壁が形成される。これによりクラッド層13から埋め込み層14への正孔の流入が抑制され,電流が活性層12に集中するので発振閾値電流が低下する。
公开日期1993-07-13
申请日期1991-12-25
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83936]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJITSU LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
杉浦 勝己,穴山 親志. 半導体レーザ装置. JP1993175596A. 1993-07-13.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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