半導体レーザ素子とその製造方法
文献类型:专利
| 作者 | 本多 正治; 松川 健一 |
| 发表日期 | 1993-03-26 |
| 专利号 | JP1993075206A |
| 著作权人 | 三洋電機株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 半導体レーザ素子とその製造方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 瞬時光学損傷を防止して、高光出力を可能にする簡単な構造のAlGaInP系半導体等からなる半導体レーザ素子とその製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 n形AlGaInPクラッド層3とp形AlGaInPクラッド層5の間にAlGaInP活性層4とからなるAlGaInP系半導体レーザ装置において、p形AlGaInPクラッド層5の光放出を行う端面に(NH4)2C4O6溶液で処理した後、熱処理を行うことにより、p形AlGaInPクラッド層5のうち端面付近25のpキャリア濃度を低減し、高抵抗にする。 |
| 公开日期 | 1993-03-26 |
| 申请日期 | 1991-09-18 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83988] ![]() |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 三洋電機株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 本多 正治,松川 健一. 半導体レーザ素子とその製造方法. JP1993075206A. 1993-03-26. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
