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半導体レーザ素子とその製造方法

文献类型:专利

作者本多 正治; 松川 健一
发表日期1993-03-26
专利号JP1993075206A
著作权人三洋電機株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子とその製造方法
英文摘要【目的】 瞬時光学損傷を防止して、高光出力を可能にする簡単な構造のAlGaInP系半導体等からなる半導体レーザ素子とその製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 n形AlGaInPクラッド層3とp形AlGaInPクラッド層5の間にAlGaInP活性層4とからなるAlGaInP系半導体レーザ装置において、p形AlGaInPクラッド層5の光放出を行う端面に(NH4)2C4O6溶液で処理した後、熱処理を行うことにより、p形AlGaInPクラッド層5のうち端面付近25のpキャリア濃度を低減し、高抵抗にする。
公开日期1993-03-26
申请日期1991-09-18
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83988]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
本多 正治,松川 健一. 半導体レーザ素子とその製造方法. JP1993075206A. 1993-03-26.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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