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光半導体装置

文献类型:专利

作者大橋 真; 古山 英人
发表日期1995-08-04
专利号JP1995202321A
著作权人TOSHIBA CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光半導体装置
英文摘要【目的】高利得で厚い活性層からなる活性領域を実現し得る構造の光半導体装置を提供すること。 【構成】複数のダブルへテロ構造が積層されてなる活性領域16と、ダブルヘテロ構造のヘテロ接合面に平行な方向からキャリアを注入するための半導体電極層18,19とを備えている。
公开日期1995-08-04
申请日期1993-12-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84105]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOSHIBA CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
大橋 真,古山 英人. 光半導体装置. JP1995202321A. 1995-08-04.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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