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窒化物半導体素子

文献类型:专利

作者木戸口 勲; 大塚 信之; 伴 雄三郎
发表日期2003-07-25
专利号JP3454181B2
著作权人松下電器産業株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名窒化物半導体素子
英文摘要【課題】 光の閉じ込めを向上させることにより、垂直横モードが安定なGaN系半導体レーザを提供する。 【解決手段】 基板上にn-Al0.07Ga0.93N第一クラッド層、活性層、p-Al0.07Ga0.93N第二クラッド層が積層されており、さらに、第一クラッド層と基板との間に第一クラッド層よりもAl組成の高い(または等しい)AlGaN層を形成することにより、活性層への光閉じ込めを向上させ、かつ、結晶へのクラック発生を抑制することができる。
公开日期2003-10-06
申请日期1999-03-23
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84161]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電器産業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
木戸口 勲,大塚 信之,伴 雄三郎. 窒化物半導体素子. JP3454181B2. 2003-07-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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