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量子井戸半導体レーザ

文献类型:专利

作者大久保 典雄; 菊田 俊夫
发表日期1994-10-28
专利号JP1994302910A
著作权人古河電気工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名量子井戸半導体レーザ
英文摘要【目的】 キャリアの活性層への注入効率や温度特性が高く、シリーズ抵抗が低い量子井戸半導体レーザを提供する。 【構成】 n型GaAs基板1上に、n-GaAsバッファ層2、n-InGaPクラッド層3、n型光閉じ込め層15、InGaAs歪量子井戸活性層7、p型光閉じ込め層16、p-InGaPクラッド層11、p-GaAsキャップ層12を順に積層形成し、キャップ層12とクラッド層11の一部分にかけて半導体レーザの左右両側をエッチング除去し、除去した部分にポリイミド膜17を形成する。n型光閉じ込め層15とp型光閉じ込め層16は各々バレンスバンドエネルギが異なるInGaAsPの層を積層形成して、エネルギ的に階段状になるように構成し、p型光閉じ込め層16の厚さをn型光閉じ込め層15の厚さよりも厚くする。
公开日期1994-10-28
申请日期1993-04-12
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84275]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位古河電気工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
大久保 典雄,菊田 俊夫. 量子井戸半導体レーザ. JP1994302910A. 1994-10-28.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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