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半導体レーザー

文献类型:专利

作者内田 史朗
发表日期2003-11-21
专利号JP3493920B2
著作权人ソニー株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザー
英文摘要【課題】 AlGaInP系の自励発振型半導体レーザーにおいて、高温においても、確実に自励発振動作を持続することができるようにする。 【解決手段】 少なくとも活性層3と、p型クラッド層2と、n型クラッド層4とを有し、活性層に対するストライプ状電流通路を挟んでその両側に、電流狭搾および光吸収がなされるブロック層6を有するAlGaInP系半導体レーザーにおいて、p型クラッド層4あるいはn型クラッド層2の少なくともいずれか一方に、活性層3の厚さ方向の光の分布のピーク位置を、上記ブロック層6より遠ざける方向にシフトさせる自励発振安定化層10を配置した構成とする。
公开日期2004-02-03
申请日期1996-11-13
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84423]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ソニー株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
内田 史朗. 半導体レーザー. JP3493920B2. 2003-11-21.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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