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窒化物系半導体レーザ装置及びその製造方法

文献类型:专利

作者猪口 和彦
发表日期1997-11-04
专利号JP1997289358A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名窒化物系半導体レーザ装置及びその製造方法
英文摘要【課題】 GaAlInN系化合物半導体レーサ素子は、エッチングの面内均一性が悪いため、エッチングのばらつきによる電子注入不良や活性層の品質劣化の問題が有り、屈折率分布をもつ光導波路構造をもつ、高効率、且つ作成歩留まりの高い窒化ガリウム系半導体レーザ素子の作製をすることは困難であった。 【解決手段】 本発明にかかる半導体レーザ素子は、だいお導電型上部クラッド層が共振器方向に伸延したリッジストライプ形状の形成の手段として、選択成長法を用いた場合には、リッジストライプ外側の上部クラッド層の膜厚制御性に優れており、化合物半導体レーザ素子の特性のばらつきが改善される。
公开日期1997-11-04
申请日期1997-02-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84733]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
猪口 和彦. 窒化物系半導体レーザ装置及びその製造方法. JP1997289358A. 1997-11-04.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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