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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者村山 実
发表日期2000-01-28
专利号JP2000031585A
著作权人ROHM CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【構成】 リッジ部30および電流狭窄層32のそれぞれとコンタクト層38との間に第3上部クラッド層34を形成することによって、活性層20からコンタクト層38までの距離Lを十分に長く確保しているので、活性層20から滲み出した光がコンタクト層38へ達して吸収される心配はない。 【効果】 距離Lを十分に長く確保するためにリッジ部30の厚みを大きくする必要がないので、リッジ部30の過剰なサイドエッチングに伴うリッジ部上端幅Hの狭小化を防止でき、直列抵抗の増大を招くことなく高出力化に伴うレーザ特性の劣化を防止できる。
公开日期2000-01-28
申请日期1998-07-15
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84828]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ROHM CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
村山 実. 半導体レーザ装置. JP2000031585A. 2000-01-28.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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