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半導体発光装置およびその製造方法

文献类型:专利

作者下山 謙司; 長尾 哲; 藤井 克司; 後藤 秀樹
发表日期2007-02-22
专利号JP2007049188A
著作权人MITSUBISHI CHEMICALS CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光装置およびその製造方法
英文摘要(修正有) 【課題】本発明は簡便な方法で製造することが可能で、レーザ特性が安定している、リッジ導波型ストライプ構造を有する半導体発光素子を提供すること。 【解決手段】表面が低次の面方位に対してオフアングルを有する基板101上に、活性層を有する化合物半導体層、該化合物半導体層の上に形成され且つ電流が注入されるストライプ領域に対応する領域に開口部111を有する選択成長保護膜110、および該開口部を覆うように形成されたリッジ型化合物半導体層を有することを特徴とする半導体発光装置。 【選択図】図1
公开日期2007-02-22
申请日期2006-10-16
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84962]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI CHEMICALS CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
下山 謙司,長尾 哲,藤井 克司,等. 半導体発光装置およびその製造方法. JP2007049188A. 2007-02-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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