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窒化物半導体レーザー

文献类型:专利

作者佐野 雅彦; 長浜 慎一; 中村 修二
发表日期1999-11-30
专利号JP1999330610A
著作权人日亜化学工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名窒化物半導体レーザー
英文摘要【課題】本発明は窒化物半導体(InxAlyGa1-x-yN、0≦x、0≦y、x+y≦1)を用いた窒化物半導体レーザーに係わり、特に実装時においても信頼性が高く量産性に優れた窒化物半導体レーザーを提供することにある。 【解決手段】導電性基板上に設けられた凸型ストライプ状導波路領域と、該導波路領域から連続する略平滑面とを有する窒化物半導体レーザーである。特に、導波路領域上に設けられたストライプ状の第1電極と、第1電極と電気的に接続され絶縁性保護膜を介して窒化物半導体の平滑面上に配置されたワイヤボンディング用のパッド電極と、導電性基板を介して第1電極と対向して設けられた第2電極とを有する窒化物半導体レーザーである。
公开日期1999-11-30
申请日期1998-05-11
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/85214]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日亜化学工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
佐野 雅彦,長浜 慎一,中村 修二. 窒化物半導体レーザー. JP1999330610A. 1999-11-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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