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半導体発光素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者小野村 正明; 山本 雅裕; 布上 真也
发表日期1999-10-08
专利号JP1999274642A
著作权人TOSHIBA CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光素子及びその製造方法
英文摘要【課題】 窒化物系半導体レーザにおける単一縦モード制御及び高次の横モード制御を可能にし、高い単色性と優れたビーム特性を実現し、且つ信頼性の向上をはかる。 【解決手段】 サファイア基板10上に、MQW活性層17をp型及びn型のAlGaNクラッド層12,20で挟んだ窒化物系半導体レーザにおいて、活性層17と基板10側のn型クラッド層12との間の領域に、W光吸収層13とSiO2層14からなる回折格子が形成されている。
公开日期1999-10-08
申请日期1998-03-19
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/85306]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOSHIBA CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
小野村 正明,山本 雅裕,布上 真也. 半導体発光素子及びその製造方法. JP1999274642A. 1999-10-08.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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