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半导体装置的制造方法

文献类型:专利

作者广中美佐夫; 西口晴美; 藏本恭介; 楠政谕
发表日期2011-07-27
专利号CN102136678A
著作权人三菱电机株式会社
国家中国
文献子类发明申请
其他题名半导体装置的制造方法
英文摘要本发明涉及半导体装置的制造方法。通过在n型GaN衬底(10)上形成半导体层叠结构(12),从而形成具有多个半导体激光器(14)的晶片(16)。接着,在半导体激光器(14)间的分离区域(18)中,在晶片(16)的主面形成第1槽部(22)。接着,将晶片(16)分离为半导体激光器14排列为棒状的激光棒(26)。接着,在激光棒(26)的第1槽部(22)内,形成具有与第1槽部(22)相同或较窄的宽度的第2槽部(30)。接着,沿着第2槽部(30)将激光棒(26)分离为各个半导体激光器(14)。
公开日期2011-07-27
申请日期2010-09-30
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/85416]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三菱电机株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
广中美佐夫,西口晴美,藏本恭介,等. 半导体装置的制造方法. CN102136678A. 2011-07-27.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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