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半导体激光耦合匀化装置

文献类型:专利

作者毛小洁; 秘国江; 邹跃; 庞庆生
发表日期2013-09-25
专利号CN203218706U
著作权人中国电子科技集团公司第十一研究所
国家中国
文献子类实用新型
其他题名半导体激光耦合匀化装置
英文摘要本实用新型公开了一种半导体激光耦合匀化装置。该方法包括:半导体激光器、与半导体激光器相匹配的聚焦透镜组、以及与聚焦透镜组相匹配的匀化棒;半导体激光器,用于发射半导体激光;聚焦透镜组,用于对半导体激光器发射的半导体激光进行耦合;匀化棒,用于对进行耦合后的半导体激光进行匀化,得到均匀的半导体激光并输出。本实用新型实施例的半导体激光耦合匀化装置具有结构简单、高耦合效率、高功率、高峰值功率、以及高光束质量的优点。
公开日期2013-09-25
申请日期2013-04-09
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86269]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国电子科技集团公司第十一研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
毛小洁,秘国江,邹跃,等. 半导体激光耦合匀化装置. CN203218706U. 2013-09-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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