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半導体装置

文献类型:专利

作者須郷 満; 伊藤 義夫; 森 英史
发表日期1993-03-19
专利号JP1993067841A
著作权人日本電信電話株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体装置
英文摘要【目的】 単結晶Siでなる半導体基板上に、単結晶III-V族化合物半導体でなる活性層を有する半導体積層体が、半導体レ—ザを構成すべく形成されている半導体装置において、活性層を残留応力の十分低いものにし、よって、半導体レ—ザを長寿命を有するものにする。 【構成】 活性層を構成している単結晶III-V族化合物半導体を、Inx (Ga1-y Aly )1-x As(0
公开日期1993-03-19
申请日期1991-09-06
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86656]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電信電話株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
須郷 満,伊藤 義夫,森 英史. 半導体装置. JP1993067841A. 1993-03-19.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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