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光素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者山添 哲也; 上島 研一; 田口 英夫; 苅田 秀孝
发表日期1998-05-22
专利号JP1998135561A
著作权人日本オプネクスト株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光素子およびその製造方法
英文摘要【課題】 光導波路の端面を被う被膜(パッシベーション膜)の脱落を防止するレーザダイオードの製造方法の提供。 【解決手段】 レーザダイオードがモノリシックに組み込まれてなる光素子であり、前記レーザダイオードの光導波路の端面が被膜で被われてなる光素子であって、前記被膜が形成される光導波路の端面部分の光素子表面は他の光素子表面部分よりも一段低くなっている。前記被膜が形成される光導波路の端面全体の光素子表面部分が他の光素子表面部分よりも一段低くなっている。前記光導波路の一端面は低反射率膜で被われ、他端面は高反射率膜で被われている。前記レーザダイオードが形成された光素子の表面部分は前記レーザダイオードの光導波路に沿って帯状に高くなっている。
公开日期1998-05-22
申请日期1996-10-30
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86704]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本オプネクスト株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
山添 哲也,上島 研一,田口 英夫,等. 光素子およびその製造方法. JP1998135561A. 1998-05-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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