DFBレーザ用グレーティングの構造およびその形成方法
文献类型：专利
| 作者 | 鹿島 保昌 |
| 发表日期 | 1994-09-09 |
| 专利号 | JP1994252502A |
| 著作权人 | OKI ELECTRIC IND CO LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | DFBレーザ用グレーティングの構造およびその形成方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 グレ-ティングの高さが設計通りの高さである、DFBレ-ザ用グレ-ティングの構造およびその形成方法を提供すること。 【構成】 n-InP基板30上に、厚さ2000A°のn-InPバッファ層38、厚さ1000A°のInGaAsP活性層40、厚さ500A°のp-InPエッチングストップ層32、厚さ200A°のp-InGaAsP光ガイド層34およびp-InPキャップ層36を順にMO-CVD法を用いて成長させる。次に、塩酸等を用いてキャップ層36に対して1回目のエッチングを行い、さらに硝酸過水等を用いて光ガイド層34に対してエッチングストップ層32に達するまで2回目のエッチングを行い、グレ-ティング44を形成する。次に、光ガイド層34a上にp-InPクラッド層46を成長させる。 |
| 公开日期 | 1994-09-09 |
| 申请日期 | 1993-02-26 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86847]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | OKI ELECTRIC IND CO LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 鹿島 保昌. DFBレーザ用グレーティングの構造およびその形成方法. JP1994252502A. 1994-09-09. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。