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GaN系レーザ素子

文献类型:专利

作者近江 晋; 伊藤 茂稔; 大野 智輝; 川上 俊之
发表日期2006-12-28
专利号JP2006352159A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名GaN系レーザ素子
英文摘要【課題】雑音が低減されたGaN系レーザ素子を提供する。 【解決手段】発光層を含むGaN系半導体積層構造を含むGaN系レーザ素子において、その半導体積層構造にはストライプ状導波路構造が作り込まれているとともに、そのストライプ状導波路を幅方向に挟むように対向した2つの側面が形成されており、それら2つの側面の少なくとも一部上には幅方向におけるファブリペロー共振器としての作用を抑制するための反射抑制膜が形成されており、その反射抑制膜は波長390〜420nmの領域で10%以下の反射率を有することを特徴としている。 【選択図】図16
公开日期2006-12-28
申请日期2006-08-28
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86889]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
近江 晋,伊藤 茂稔,大野 智輝,等. GaN系レーザ素子. JP2006352159A. 2006-12-28.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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