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半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者辰巳 正毅
发表日期1999-03-09
专利号JP1999068226A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【課題】 活性層への電流通路上の一部に高抵抗領域を形成し、活性層に対して電流非注入領域が設けられ、該電流非注入領域を可飽和吸収層として作用させた自励発振型の低雑音半導体レーザ素子において、雑音特性の歩留まりを向上させ、信頼性の高い半導体レーザ素子の構造、製造方法を提供する。 【解決手段】 活性層への電流通路に選択的に高抵抗領域を形成して、電流非注入領域を形成してなる半導体レーザ素子において、前記高抵抗領域がAlを含む半導体層に形成されたAlの酸化物であることを特徴とする。
公开日期1999-03-09
申请日期1997-08-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/86913]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
辰巳 正毅. 半導体レーザ素子およびその製造方法. JP1999068226A. 1999-03-09.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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