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半導体光素子

文献类型:专利

作者直江 和彦
发表日期1999-09-17
专利号JP1999251682A
著作权人株式会社日立製作所
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体光素子
英文摘要【課題】劈開工程に起因する半導体光素子の特性不良を低減し、かつ劈開工程における素子歩留まりを飛躍的に向上させる。 【解決手段】半導体素子表面光導波路方向と垂直方向に、キャビティを構成しない側の素子端面からもう一方の同端面に渡ってストライプ状の裏面電極を形成しかつ、半導体光素子表面光導波路方向と垂直方向にのみ半導体基板材料で構成された劈開しろを形成した構造をとる。
公开日期1999-09-17
申请日期1998-03-04
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87044]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社日立製作所
推荐引用方式
GB/T 7714
直江 和彦. 半導体光素子. JP1999251682A. 1999-09-17.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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