回折格子の製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 入川 理徳; 岩瀬 正幸 |
| 发表日期 | 1996-12-17 |
| 专利号 | JP1996334610A |
| 著作权人 | FURUKAWA ELECTRIC CO LTD:THE |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 回折格子の製造方法 |
| 英文摘要 | 【目的】 DFB半導体レーザのための回折格子を低コストで且つ高精度に作製する。 【構成】 基板11上にEB用レジストを塗布し、これを電子線で照射してEB用レジスト12から成る回折格子パターンを形成する。このパターン12の全体を薄いSiNx膜13で被覆した後にUV硬化レジン14を塗布することで、UV硬化レジン14上に、EB用レジスト12の回折格子パターンを転写する。高精度で安定な形状の回折格子パターンを有するホトマスクが得られる。また、高価な切削工具を使用しないので、回折格子が安価に形成できる。他の方法として、基板上に順次SiO2膜及びアモルファスSi層を形成し、SiO2膜をエッチ停止層としてアモルファスSi層をエッチングすることで、回折格子パターンのエッチング深さを正確に制御すると共にエッチ面の劣化を防止する。 |
| 公开日期 | 1996-12-17 |
| 申请日期 | 1995-06-06 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87162]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | FURUKAWA ELECTRIC CO LTD:THE |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 入川 理徳,岩瀬 正幸. 回折格子の製造方法. JP1996334610A. 1996-12-17. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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