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半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者三浦 猛; 國次 恭宏
发表日期1995-01-24
专利号JP1995022689A
著作权人三菱電機株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【目的】 従来の水平共振器構造の半導体レーザ素子製造技術を用いて垂直共振器構造の面発光レーザ素子を得ることを目的とする。 【構成】 n型GaAs基板15の上に、高反射絶縁膜16を形成した後、高反射絶縁膜16を選択成長マスクとしてn型GaAs基板15上に垂直方向にn型GaAs層17を結晶成長させる。n型GaAs層17の左右側面に垂直な方向に、n型AlGaAsクラッド層3、AlGaAs活性層18、p型AlGaAsクラッド層5、p型GaAsコンタクト層19を順に結晶成長させ、その上に低反射絶縁膜20を形成し、p側電極21、n側電極22を形成して面発光レーザ素子が完成する。 【効果】 従来の水平共振器構造の半導体レーザ素子製造技術を用いて垂直共振構造の面発光レーザ素子を得ることができる。
公开日期1995-01-24
申请日期1993-06-29
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87350]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三菱電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
三浦 猛,國次 恭宏. 半導体レーザ素子およびその製造方法. JP1995022689A. 1995-01-24.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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