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レーザモジュールの製造方法

文献类型:专利

作者山中 英生; 蔵町 照彦; 永野 和彦; 岡崎 洋二
发表日期2004-01-22
专利号JP2004022918A
著作权人FUJI PHOTO FILM CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名レーザモジュールの製造方法
英文摘要【課題】半導体レーザ素子が密閉容器内に設置されてなるレーザモジュールにおいて、容器内の汚染物質を除去し、良好な特性および信頼性を得る。 【解決手段】ステム1上に、サブマウント5に半導体レーザ素子6が接着されたヒートシンク4と、モニタ用フォトダイオード10とを設置し、これをプラズマ照射装置の真空槽60内の固定台65に設置する。大気から初期の真空度が1×10-2Torr以下になるまで排気(63)後、マイクロ波62、および1×10-2~1×10-1Torrの、アルゴンガス61を導入して10~1000W程度の電力を印加してプラズマ64を発生させ、約60分以下の時間でプラズマ照射を行う。最後に、無反射コーティングが施されたガラス窓3を備えた容器2によって、ドライエア(N2=80%、O2=20%)雰囲気でリングウェルド封止する。 【選択図】 図1
公开日期2004-01-22
申请日期2002-06-19
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87357]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJI PHOTO FILM CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
山中 英生,蔵町 照彦,永野 和彦,等. レーザモジュールの製造方法. JP2004022918A. 2004-01-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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