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半導体発光素子の製造方法

文献类型:专利

作者皆川 重量; 田中 俊明; 石谷 善博; 大歳 創
发表日期1995-09-26
专利号JP1995249830A
著作权人HITACHI LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体発光素子の製造方法
英文摘要【目的】 AlGaInN系エピタキシャル結晶にファブ·リペロー·キャビテイを形成する半導体発光素子の製造方法を提供する。 【構成】 ウルツ鉱型結晶構造を有するAlGaInN系のエピタキシャル結晶において、エピタキシャル結晶面に垂直に溝を切り、溝の側面上にエピタキシャル結晶を成長せしめることによって良好なファブリ·ペロー·キャビテイを形成する。具体的には図1に示すとおり、AlGaInN系エピタキシャル結晶層12-16に溝18を掘り、その側壁に結晶成長層19をつけることによって平坦な反射面が形成される。 【効果】 AlGaInN系のエピタキシャル結晶に従来困難であったファブリ·ペロー·キャビテイを作り込むことが出来る。
公开日期1995-09-26
申请日期1994-03-10
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87899]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
皆川 重量,田中 俊明,石谷 善博,等. 半導体発光素子の製造方法. JP1995249830A. 1995-09-26.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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