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リッジ導波型半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者松山 隆之
发表日期2000-01-14
专利号JP2000012966A
著作权人TOSHIBA ELECTRONIC ENGINEERING CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名リッジ導波型半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【課題】 リッジ導波型半導体レーザ素子のしきい値電流の低減化、出力の安定、および信頼性の向上を図る。 【解決手段】 第1クラッド層、活性層、第2クラッド層、リッジ状の第3クラッド層が順次形成されたリッジ導波型半導体レーザ素子で、低キャリア濃度の第2クラッド層には、第3クラッド層下方の部分に第1クラッド層と異なる導電型で形成された高キャリア濃度の低抵抗領域が形成されている。
公开日期2000-01-14
申请日期1998-06-24
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87998]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位TOSHIBA ELECTRONIC ENGINEERING CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
松山 隆之. リッジ導波型半導体レーザ素子およびその製造方法. JP2000012966A. 2000-01-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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