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窒化物半導体素子

文献类型:专利

作者妹尾 雅之; 中村 修二
发表日期2000-07-14
专利号JP3087831B2
著作权人日亜化学工業株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名窒化物半導体素子
英文摘要【目的】 基板側より接触抵抗の低い電極を取り出すことができて、さらに放熱性に優れた窒化物半導体素子を実現する。 【構成】 第1の主面と第2の主面とを有する基板の第1の主面側にn型窒化物半導体層と、p型窒化物半導体層とが積層され、第1の主面側にあるそれらの窒化物半導体層に、それぞれオーミック接触用のn電極と、p電極とが設けられており、さらに、基板の第2の主面側には、前記n、pいずれか一方の電極と電気的に接続された第1の電極が、基板の側面と連続して形成されて、その第1の電極が基板の第1の主面側の表面に形成された絶縁膜によって、もう一方の電極と絶縁されている。
公开日期2000-09-11
申请日期1996-11-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88045]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日亜化学工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
妹尾 雅之,中村 修二. 窒化物半導体素子. JP3087831B2. 2000-07-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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