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半導体光集積装置及びその作製方法

文献类型:专利

作者岩井 則広; 向原 智一; 山口 武治; 粕川 秋彦
发表日期2000-08-22
专利号JP2000232252A
著作权人FURUKAWA ELECTRIC CO LTD:THE
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体光集積装置及びその作製方法
英文摘要【課題】 共通の半導体基板上にモノリシックに形成したレーザ素子と受光素子とを単一の電源によって駆動できる、半導体光集積装置を提供する。 【解決手段】 本装置39は、共通のInP基板21上にモノリシックに設けられたレーザ素子40と受光素子41とを備え、分離溝42により電気的に分離されている。受光素子は、n-InP基板上に、膜厚100nmのn-AlInAs層22、n-InPクラッド層23、MQW活性層24、p-InPクラッド層25、膜厚50nmのp-AlInAs層26、p-InPクラッド層27、及びp-GaInAsコンタクト層28の積層構造を有する。リッジストライプを構成するp-AlInAs層の両側部は、AlInAs層中のAlが酸化されたAl酸化層29となって電流狭窄構造を構成し、n-AlInAs層22は、全層にわたりAlが酸化されたAl酸化層30になっている。受光素子は、Al酸化層30により半導体基板から電気的に分離され、分離溝によりレーザ素子から電気的に分離されている。
公开日期2000-08-22
申请日期1999-02-10
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88052]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FURUKAWA ELECTRIC CO LTD:THE
推荐引用方式
GB/T 7714
岩井 則広,向原 智一,山口 武治,等. 半導体光集積装置及びその作製方法. JP2000232252A. 2000-08-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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