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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者今藤 修; 内藤 浩樹; 粂 雅博; 伊藤 国雄
发表日期2000-03-03
专利号JP3040262B2
著作权人松下電子工業株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【目的】 光情報処理等の光源として用いる半導体レーザ装置において発振波長を安定させ、動作電流値を下げる。 【構成】 Ga1-XAlXAs活性層4の主面の少なくとも一方の側に一導電型のGa1-Y1AlY1As第1光ガイド層5および回折格子を有するGa1-Y2AlY2As第2光ガイド層6が形成されており、第2光ガイド層6の上にストライプ状の窓7aを有する逆導電型のGa1-ZAlZAs電流ブロック層7が形成されており、ストライプ状の窓7aには一導電型のGa1-Y3AlY3Asクラッド層9が形成されており、かつAlAs混晶比を決めるX、Y1、Y2、Y3およびZの間にZ>Y3>Y2>X≧0、Y1>Y2の関係を有する。
公开日期2000-05-15
申请日期1992-09-29
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88086]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電子工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
今藤 修,内藤 浩樹,粂 雅博,等. 半導体レーザ装置. JP3040262B2. 2000-03-03.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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