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分布帰還型半導体レーザ素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者陳 農; 渡部 義昭; 武井 清; 竹間 清文
发表日期1998-06-26
专利号JP1998173285A
著作权人PIONEER ELECTRON CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名分布帰還型半導体レーザ素子及びその製造方法
英文摘要【課題】 少ない工程数で製造できる分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法及びそれにより製造される分布帰還型半導体レーザ素子を提供することを目的とする。 【解決手段】 分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法であって、基板上に少なくとも活性層、上下クラッド層、及びコンタクト層を積層したレーザ基板を1回結晶成長で形成する工程と、レーザ基板をエッチングし、ストライプ方向にリッジストライプ幅が周期的に変化したリッジストライプを形成する工程と、を含むことを特徴とする。
公开日期1998-06-26
申请日期1996-12-09
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88121]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位PIONEER ELECTRON CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
陳 農,渡部 義昭,武井 清,等. 分布帰還型半導体レーザ素子及びその製造方法. JP1998173285A. 1998-06-26.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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