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DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR A STRUCTURE MESA ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL DISPOSITIF

文献类型:专利

作者TAKEMI MASAYOSHI; KIMURA TATSUYA; SUZUKI DAISUKE; SHIBA TETSUO; SHIBATA KIMITAKA
发表日期1997-07-04
专利号FR2743197A1
著作权人MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA
国家法国
文献子类发明申请
其他题名DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR A STRUCTURE MESA ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL DISPOSITIF
英文摘要La présente invention concerne un dispositif à semi-conducteur et un procédé de fabrication de celui-ci.Le dispositif est caractérisé en ce qu'il comprend des couches d'enfouissement mesa comprenant une couche d'enfouissement (6) en InP du type p et une couche d'enfouissement (7) en InP du type n réalisée par croissance épitaxiale sur des surfaces latérale et supérieure de la couche (6) et l'épaisseur critique Dn de la couche (7) réalisée par croissance sur la surface (001) lorsque la couche (7) n'est pas réalisée par croissance sur la surface (111) B de la couche (6) est représentée par(CF DESSIN DANS BOPI)une épaisseur D de la couche (7) réalisée par croissance sur la surface (001) satisfaisant la relation de D =L'invention trouve application dans des systèmes de communication optique.
公开日期1997-07-04
申请日期1996-12-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88618]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA
推荐引用方式
GB/T 7714
TAKEMI MASAYOSHI,KIMURA TATSUYA,SUZUKI DAISUKE,et al. DISPOSITIF A SEMI-CONDUCTEUR A STRUCTURE MESA ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL DISPOSITIF. FR2743197A1. 1997-07-04.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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