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分布帰還型半導体レーザ

文献类型:专利

作者細井 洋治; 坪田 孝志
发表日期1994-01-14
专利号JP1994005970A
著作权人沖電気工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名分布帰還型半導体レーザ
英文摘要【目的】 電流-光出力特性のキンクが従来より生じにくくかつ光取り出し効率の向上が図れる分布帰還型半導体レーザを提供する。 【構成】 ピッチが241nm、山の高さが20nm以下の所定値の回折格子11aを有するn型InP基板11上に、λg が10μmで厚さが0.13〜0.15μmのn型InGaAsP導波路層13と、厚さが50〜60nmのn型InPスペーサ層21と、λg が55μmで厚さが0.10〜0.13μmのアンドープInGaAsP活性層15と、λg が35μmで厚さが40〜50nmのp型InGaAsPバッファ層17と、厚さが0.5〜0.7μmのp型InPクラッド層19とをこの順に具える。
公开日期1994-01-14
申请日期1992-06-17
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88643]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位沖電気工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
細井 洋治,坪田 孝志. 分布帰還型半導体レーザ. JP1994005970A. 1994-01-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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