Anordnung zur Erhöhung des Füllfaktors in y-Richtung der Strahlung mehrerer gekühlter Diodenlaserbarren gleicher Wellenlänge und Polarisation
文献类型：专利
| 作者 | GIESEKUS JOACHIM; HÖFER MARCO; LEERS MICHAEL; LUTTMANN JÖRG; SCHNITZLER CLAUS; TRAUB MARTIN |
| 发表日期 | 2005-01-20 |
| 专利号 | DE10328084A1 |
| 著作权人 | FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. |
| 国家 | 德国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | Anordnung zur Erhöhung des Füllfaktors in y-Richtung der Strahlung mehrerer gekühlter Diodenlaserbarren gleicher Wellenlänge und Polarisation |
| 英文摘要 | Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Erhöhung des Füllfaktors in y-Richtung der Strahlung mehrerer gekühlter Diodenlaserbarren gleicher Wellenlänge und Polarisation, die jeweils in z-Richtung ein Strahlungsfeld abstrahlen, mit mindestens einem optischen Bauelement, wobei die einzelnen Diodenlaser auf einem Barren in x-Richtung nebeneinander angeordnet sind und die Diodenlaserbarren in y-Richtung, einen Diodenlaserstack bildend, übereinander gestapelt sind, wobei die x-, y- und z-Richtung ein rechtwinkliges Koordinatensystem bilden, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die jeweiligen Strahlungsfelder der einzelnen Diodenlaserbarren in eine planparallele Platte, deren beiden Flächen für die Diodenlaserstrahlung hoch reflektierend ausgebildet sind, im Bereich von für die Diodenlaserstrahlung antireflektierend ausgebildeten Flächenteilen eingestrahlt werden, wobei dieses jeweilige Einstrahlflächenteil der planparallelen Platte unter einem Winkel zu der z-Richtung ausgerichtet ist, und dass die einzelnen Strahlungsanteile der jeweiligen Diodenlaserbarren durch Reflexion an den hoch reflektierend ausgebildeten Flächen der planparallelen Platte zu einem für die Strahlung antireflektierend beschichteten Austrittsfenster der planparallelen Platte geführt werden und aus der Faltungsplatte als Strahlungsfeld ausgekoppelt werden. |
| 公开日期 | 2005-01-20 |
| 申请日期 | 2003-06-20 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88699]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | GIESEKUS JOACHIM,HÖFER MARCO,LEERS MICHAEL,et al. Anordnung zur Erhöhung des Füllfaktors in y-Richtung der Strahlung mehrerer gekühlter Diodenlaserbarren gleicher Wellenlänge und Polarisation. DE10328084A1. 2005-01-20. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。