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半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者細羽 弘之; 須山 尚宏; ▲吉▼田 智彦; 兼岩 進治; 近藤 雅文; 幡 俊雄; 大林 健
发表日期1999-04-02
专利号JP2908124B2
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【目的】 閾値電流が低く、高出力においても高い微分効率で安定して基本横モード発振することができ、信頼性に優れる半導体発光素子を提供する。 【構成】 電流狭窄用のストライプ溝112上に形成されたAlwGa1-wAs第3クラッド層9において、ストライプ溝112の底114の上方にある部分115の屈折率が、該ストライプ溝112の両側面113、113の上方にある部分116、116の屈折率より大きく形成されているため、この部分において実効屈折率差に基づく屈折率導波路が形成される。活性層3にて発生した光の基本横モードは、この屈折率導波路によって閉じ込められる。
公开日期1999-06-21
申请日期1992-07-07
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88701]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
細羽 弘之,須山 尚宏,▲吉▼田 智彦,等. 半導体レーザ素子およびその製造方法. JP2908124B2. 1999-04-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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