レーザービーム入射方法
文献类型：专利
| 作者 | 丸山 眞示; 西田 直樹; 横山 光 |
| 发表日期 | 2000-11-30 |
| 专利号 | JP2000329976A |
| 著作权人 | ミノルタ株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | レーザービーム入射方法 |
| 英文摘要 | 【課題】 光ファイバーあるいは光導波路からの出力光のばらつきを抑制でき、入射レーザービームと光ファイバーあるいは光導波路の光軸の位置合わせが容易であるレーザービームの入射方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明のレーザービーム入射方法は、レーザービームを光ファイバーあるいは光導波路に入射させる際の入射面におけるレーザービームの空間的強度分布は略均一であり、該レーザービームのスポットサイズは前記光ファイバーあるいは光導波路の基本モードのモード径以上であるようにする。 |
| 公开日期 | 2000-11-30 |
| 申请日期 | 1999-05-24 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88722]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | ミノルタ株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 丸山 眞示,西田 直樹,横山 光. レーザービーム入射方法. JP2000329976A. 2000-11-30. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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