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半導体レーザ素子の製造方法

文献类型:专利

作者常包 正樹
发表日期1993-07-02
专利号JP1993167186A
著作权人NEC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子の製造方法
英文摘要【目的】 高出力で安定して動作する半導体レーザ素子を提供する。 【構成】 本発明は量子井戸を活性層とする半導体レーザにおいて、Alを含んだ半導体層上にSiO2 膜を堆積させた領域1を形成した後、800℃以上の高温で保持し、領域1下の量子井戸を無秩序化させ、その無秩序化させた領域に於てレーザ素子の共振器の反射面を構成することにより、無秩序化された共振器面を含む領域の活性層が、レーザ素子の反射器面近傍を除く、無秩序化していないレーザ素子の中央部分の活性層に比べ、実効的に大きなエネルギーギャップを有し、反射面近傍に於けるレーザ発振光の吸収を少なくすることにより、従来のレーザ素子より高い出力で安定して動作する半導体レーザ素子の、簡便で生産性の高い製造方法を提供するものである。
公开日期1993-07-02
申请日期1991-12-13
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88810]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NEC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
常包 正樹. 半導体レーザ素子の製造方法. JP1993167186A. 1993-07-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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