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半導体レーザ素子の製造方法、及び半導体レーザ素子の実装方法

文献类型:专利

作者東出 啓
发表日期2000-11-02
专利号JP2000307183A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子の製造方法、及び半導体レーザ素子の実装方法
英文摘要【課題】 コーティング膜形成後にレーザバー同士を容易に離脱させることを可能とする。 【解決手段】 半導体基板上に、レーザ素子をなし、光導波路を含む積層構造を形成する工程と、前記半導体基板を、複数個のバー状に劈開し、このレーザバーの劈開面上にコーティング膜を形成する工程と、を少なくとも含む半導体レーザ素子の製造方法において、前記レーザバーの劈開面の一方の角の部分を取り除き、角の取り除かれた部分が同一方向に向くよう、複数のレーザバーを並べて配置して、前記劈開面上にコーティング膜を形成してなることを特徴とする。
公开日期2000-11-02
申请日期1999-04-26
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88815]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
東出 啓. 半導体レーザ素子の製造方法、及び半導体レーザ素子の実装方法. JP2000307183A. 2000-11-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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