高分子光導波路およびその製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 藤居 徹; 鈴木 俊彦; 清水 敬司; 大津 茂実; 谷田 和敏; 井草 正寛 |
| 发表日期 | 2010-04-08 |
| 专利号 | JP2010078882A |
| 著作权人 | FUJI XEROX CO LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 高分子光導波路およびその製造方法 |
| 英文摘要 | 【課題】導波路端部が切り落とされて反射面が形成された光導波路に比べ、空気界面による光路変換用反射面における異物の付着が抑制される高分子光導波路を提供する。 【解決手段】コア12と、該コアを光の伝搬方向aに沿って包囲するクラッド14A,14Bとを含み、前記光の伝搬方向に対して45度の角度を成し、前記コアを伝搬する光を垂直方向に反射させる傾斜面22を有する溝20が、少なくとも一端部に形成されていることを特徴とする高分子光導波路11。好ましくは溝20の上部が塞がれている。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2010-04-08 |
| 申请日期 | 2008-09-25 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88926]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | FUJI XEROX CO LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 藤居 徹,鈴木 俊彦,清水 敬司,等. 高分子光導波路およびその製造方法. JP2010078882A. 2010-04-08. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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