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分布帰還型半導体レーザ及びその製造方法

文献类型:专利

作者松井 康浩; 荒平 慎; 沓澤 聡子; 小川 洋
发表日期1996-12-24
专利号JP1996340153A
著作权人OKI ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名分布帰還型半導体レーザ及びその製造方法
英文摘要【目的】 突き合わせ接合作製のためのエッチング、再成長のプロセスの制御を容易にし、格子欠陥のない結合効率の高い接合を再現性よく作製することができる分布帰還型半導体レーザ及びその製造方法を提供する。 【構成】 突き合わせ接合を有する分布帰還型半導体レーザにおいて、活性層となる量子井戸構造22の上側に成長されるP型クラッド層24の構成材料としてInAlAs又はInGaAlAsを用いる。また、位相整合領域BとなるInGaAsP層23の上側に成長されるP型クラッド層25の構成材料としてInAlAs又はInGaAlAsを用いる。
公开日期1996-12-24
申请日期1995-06-13
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88940]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位OKI ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
松井 康浩,荒平 慎,沓澤 聡子,等. 分布帰還型半導体レーザ及びその製造方法. JP1996340153A. 1996-12-24.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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