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プレーナ構造半導体光素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者山田 光志; 国井 達夫
发表日期1997-05-02
专利号JP1997116229A
著作权人沖電気工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名プレーナ構造半導体光素子及びその製造方法
英文摘要【課題】 プレーナ構造半導体光素子の寄生容量の低減と、作成効率の向上。 【解決手段】 下地の上面側に第1クラッド層、光導波層および第2クラッド層を、下地の上面に沿う方向に順次に接して設けてなるプレーナ構造半導体光素子において、傾斜した結晶面を有する順メサ形状のn-InPクラッド層10と、この結晶面に実質的に平行な結晶面を有する逆メサ形状のp-InPクラッド層12と、これらのn-InPクラッド層10およびp-InPクラッド層12の傾斜面間に設けられているInGaAsP光導波層14とを具える。
公开日期1997-05-02
申请日期1995-10-16
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89041]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位沖電気工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
山田 光志,国井 達夫. プレーナ構造半導体光素子及びその製造方法. JP1997116229A. 1997-05-02.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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