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半導体レーザ及びその製造方法

文献类型:专利

作者山内 義則; 堀川 英明; 中村 幸治; 中島 徹人
发表日期1997-02-07
专利号JP1997036484A
著作权人OKI ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ及びその製造方法
英文摘要【課題】 メサストライプの両側でリーク電流がなく、素子容量を小さくできる半導体レーザ及びその製造方法を提供し、高速変調動作の向上を図る。 【解決手段】 InP基板31上に積層された第一導電型クラッド層33、活性層35、第二導電型クラッド層37によりメサストライプ53を形成する。メサストライプ53の両側をFe-InP層43で挟む。Fe-InP層43をエッチングすることでメサストライプ53を挟む一対のチャンネル55を形成する。Fe-InP層43を覆うとともに活性層35上部の第二導電型クラッド層37上面にストライプ状の開口部57を有するSiO2マスク59を形成する。SiO2マスク59の開口部57にストライプ状の電極45を形成する。
公开日期1997-02-07
申请日期1995-07-14
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89117]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位OKI ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
山内 義則,堀川 英明,中村 幸治,等. 半導体レーザ及びその製造方法. JP1997036484A. 1997-02-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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