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半導体光素子の製造方法

文献类型:专利

作者須崎 泰正
发表日期1998-09-11
专利号JP1998242572A
著作权人NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体光素子の製造方法
英文摘要【課題】 表面からの位置決め精度を向上させるようにした半導体光素子の製造方法を提供する。 【解決手段】 半導体製造工程において、所定の深さと幅の異常成長抑制のための溝6を形成した。
公开日期1998-09-11
申请日期1997-02-24
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89176]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPON TELEGR & TELEPH CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
須崎 泰正. 半導体光素子の製造方法. JP1998242572A. 1998-09-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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