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光半導体装置

文献类型:专利

作者南部 芳弘; 富田 章久
发表日期1999-04-30
专利号JP1999121870A
著作权人日本電気株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光半導体装置
英文摘要【課題】キャリア注入効率に優れ、発行効率、高温変調特性、温度特性等に優れる、量子閉じこめ構造を有する光半導体装置を提供する。 【解決手段】半導体量子箱を含む活性層を備えた光半導体装置において、活性層3、5に隣接して帯間間接遷移型半導体層4を設ける。帯間間接遷移型半導体層4の間接バンドギャップは、半導体量子箱1の基底準位帯間遷移エネルギーと略等しくする。
公开日期1999-04-30
申请日期1997-10-09
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89222]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
南部 芳弘,富田 章久. 光半導体装置. JP1999121870A. 1999-04-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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