半導体光分散補償器
文献类型：专利
| 作者 | 井戸 立身; 佐野 博久 |
| 发表日期 | 1994-08-05 |
| 专利号 | JP1994216467A |
| 著作权人 | 株式会社日立製作所 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 半導体光分散補償器 |
| 英文摘要 | 【目的】 分散補償波長、分散補償強度を調整できる光分散補償器を提供し、これを光伝送システムに適応することにより伝送システムの長距離化、大容量化をはかる。 【構成】 回折格子を打刻した半導体基板1上に、異なる半導体を積層し、エッチングすることにより作製した回折格子付き半導体光導波路に光信号を入射し、反射もしくは透過させることによって分散補償を行う。該光導波路に取り付けた電極5,6によって光導波路に電界印加やキャリア注入を行うことができ、これによって分散補償波長や分散補償強度を調整できる。 【効果】 分散補償波長や分散補償強度が電気的に調整可能な光分散補償器を提供することができ、これを光伝送システムに適応することにより伝送システムの伝送距離、伝送容量を飛躍的に増大できる。 |
| 公开日期 | 1994-08-05 |
| 申请日期 | 1993-01-19 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89517]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社日立製作所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 井戸 立身,佐野 博久. 半導体光分散補償器. JP1994216467A. 1994-08-05. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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