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光集積素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者大林 健; 八木 久晴
发表日期2000-08-04
专利号JP2000216475A
著作权人SHARP CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光集積素子およびその製造方法
英文摘要【課題】 半導体レーザと光導波路のリッジ側面の埋め込み工程、埋め込み材料を同じにする。また、リッジの底面の高さが互いに相違する半導体レーザと光導波路からなる光集積素子を得る。 【解決手段】 第1の光導波路型素子と第2の光導波路型素子とを少なくとも含む光集積素子であって、第1の光導波路型素子と第2の光導波路型素子を構成するストライプ状リッジの底面の高さを互いに相違させる。
公开日期2000-08-04
申请日期1999-01-22
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89587]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SHARP CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
大林 健,八木 久晴. 光集積素子およびその製造方法. JP2000216475A. 2000-08-04.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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