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半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者森 淳; 細羽 弘之
发表日期2006-10-26
专利号JP2006295056A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【課題】、電極との接触抵抗を小さくすることができる半導体レーザ素子およびその製造方法を提供すること。 【解決手段】半導体基板1上に第1導電型クラッド層3、4、活性層5、第2導電型クラッド層6、8、リッジ形状の第2導電型キャップ層9および電極層15をこの順に備え、前記第2導電型キャップ層9の電極層15と接触する接触面が粗面9aである半導体レーザ素子を提供することにより、上記課題を解決する。 【選択図】図1
公开日期2006-10-26
申请日期2005-04-14
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/89731]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
森 淳,細羽 弘之. 半導体レーザ素子およびその製造方法. JP2006295056A. 2006-10-26.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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