制造半导体发光装置的方法及其制造的半导体发光装置
文献类型:专利
作者 | 小出典克 |
发表日期 | 2003-05-28 |
专利号 | CN1420571A |
著作权人 | 夏普公司 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 制造半导体发光装置的方法及其制造的半导体发光装置 |
英文摘要 | 一种用于制造半导体发光装置的方法,该装置包括至少一个位于衬底上的第一柱状多层结构,并包含以镓氮化物为基的半导体化合物半导体层,该化合物可由化学式InxGayAlzN(其中x+y+z=1,0≤x≤1,0≤y≤1,0≤z≤1)表示,该方法包括在衬底中形成多个凹槽的第一步骤;和在衬底上形成多个第一柱状多层结构,从而由该凹槽分离的第二步骤。 |
公开日期 | 2003-05-28 |
申请日期 | 2002-11-15 |
状态 | 授权 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90144] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 夏普公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 小出典克. 制造半导体发光装置的方法及其制造的半导体发光装置. CN1420571A. 2003-05-28. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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