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半导体发光元件及其制造方法

文献类型:专利

作者吉武春二; 高桥幸一; 布谷伸仁; 大桥健一
发表日期2003-07-30
专利号CN1433087A
著作权人株式会社东芝
国家中国
文献子类发明申请
其他题名半导体发光元件及其制造方法
英文摘要本发明涉及半导体发光元件及其制造方法。本发明揭示具备衬底,和由层积在上述衬底上的包含发光层的多层半导体膜构成的,从衬底侧的相反侧的面取出光的多层半导体膜,并且在上述多层半导体膜的光取出部分上,形成具有由(111)面构成的或者由(111)面近旁的面构成的光取出面的图案,在该光取出面上形成凹凸地构成的半导体发光元件。
公开日期2003-07-30
申请日期2003-01-15
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90297]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社东芝
推荐引用方式
GB/T 7714
吉武春二,高桥幸一,布谷伸仁,等. 半导体发光元件及其制造方法. CN1433087A. 2003-07-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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