用于制造光子器件的工艺
文献类型：专利
| 作者 | A・A・贝法; C・B・斯塔盖瑞斯库; A・T・施雷默尔 |
| 发表日期 | 2012-07-18 |
| 专利号 | CN102593709A |
| 著作权人 | 镁可微波技术有限公司 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 用于制造光子器件的工艺 |
| 英文摘要 | 本发明涉及一种用于制造光子器件的工艺，该光子器件包括外延结构，该外延结构具有有源区且包括在有源区之上但靠近有源区的湿法蚀刻停止层。通过先干法蚀刻再湿法蚀刻在该外延结构上制造端面蚀刻脊型激光器。干法蚀刻被设计成在到达形成脊所需的深度之前停止。湿法蚀刻完成脊条的形成并在湿法蚀刻停止层处停止。 |
| 公开日期 | 2012-07-18 |
| 申请日期 | 2006-12-26 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90305]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 镁可微波技术有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | A・A・贝法,C・B・斯塔盖瑞斯库,A・T・施雷默尔. 用于制造光子器件的工艺. CN102593709A. 2012-07-18. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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