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一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器

文献类型:专利

作者朱忠赟珅; 宋禹忻; 李耀耀; 韩奕; 张振普; 张立瑶; 王庶民
发表日期2017-08-11
专利号CN107039884A
著作权人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器
英文摘要本发明提供了一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器,该有源区结构包括第一势垒层、Ge纳米线和第二势垒层,所述Ge纳米线位于所述第一势垒层和所述第二势垒层之间。本发明通过将现有的CMOS工艺相兼容Ge材料转化为直接带隙,克服了硅不能直接带隙以及III‑V族发光器件与现有的CMOS工艺不兼容的问题,同时也有利于单片集成,降低成本,促进光通信行业的良性发展。
公开日期2017-08-11
申请日期2017-05-03
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90662]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海微系统与信息技术研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
朱忠赟珅,宋禹忻,李耀耀,等. 一种基于张应变Ge纳米线的有源区结构及激光器. CN107039884A. 2017-08-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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