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掺铒硅酸钇钆激光晶体及其制备方法

文献类型:专利

作者赵广军; 董勤; 丁雨憧; 陈建玉
发表日期2010-11-17
专利号CN101886292A
著作权人中国科学院上海光学精密机械研究所
国家中国
文献子类发明申请
其他题名掺铒硅酸钇钆激光晶体及其制备方法
英文摘要一种掺铒硅酸钇钆激光晶体及其制备方法,该激光晶体的分子式为:(EryGdx(1-y)Y(1-x)(1-y))2SiO5,其中y的取值范围为0.005~0.01,x的取值范围为0<x≤0.9。采用熔体法生长掺铒硅酸钇钆激光晶体。该激光晶体可以采用商业化的InP激光二极管或铒光纤激光器进行泵浦光源,并具有大的发射带宽,有利于宽的波长调谐。
公开日期2010-11-17
申请日期2010-07-14
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/90945]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院上海光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵广军,董勤,丁雨憧,等. 掺铒硅酸钇钆激光晶体及其制备方法. CN101886292A. 2010-11-17.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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