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半導体装置の製造方法

文献类型:专利

作者向山 尚孝; 大森 誠也; 村上 朱実; 石井 亮次; 近藤 崇
发表日期2008-02-14
专利号JP2008034638A
著作权人FUJI XEROX CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体装置の製造方法
英文摘要(修正有) 【課題】 チップサイズの小型化を実現しつつチップのダイボンディングを可能にする半導体装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明に係るVCSELの製造方法は、100μm角以下に切断され、かつ一様に離間されたチップ12を支持するダイボンディングテープ14をサブマウント16上に載せ、その後、サブマウント16をチップ12の外形よりも大きな外形に切断し、実装用チップ30を作成する。実装用チップ30は、ダイボンダー用コレット20により吸着できる程度のサイズを有しており、コレット30に把持された実装用チップ30がダイパット32上に搬送する、ダイボンディングされる。 【選択図】図2
公开日期2008-02-14
申请日期2006-07-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/91009]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJI XEROX CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
向山 尚孝,大森 誠也,村上 朱実,等. 半導体装置の製造方法. JP2008034638A. 2008-02-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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